วิธี “bottom-up” วัสดุอนุภาคนาโนจะถ

วิธี “bottom-up” วัสดุอนุภาคนาโนจะถูกใช้เป็นสารตั้งต้นในการเตรียมและผลิตชิ้นงาน ตัวอย่างวิธี “bottom-up” ได้แก่ วิธี inert gas condensation, high-energy ball milling and electro deposition เป็นต้น วิธีเหล่านี้สามารถผลิตวัสดุที่มีขนาดเกรนที่เล็กมากๆ ถึงระดับนาโน แต่ข้อเสียของวิธีเหล่านี้คือ ชิ้นงานที่ได้อาจมีสารเจือปน และอาจจะมีรูพรุนเกิดขึ้นในกระบวนการผลิต นอกจากนี้ยังมีข้อจำกัดในเรื่องขนาดของชิ้นงานที่เล็ก ส่งผลให้การประยุกต์ใช้งานมีข้อจำกัด

ผลลัพธ์ (อังกฤษ) 1:

Nano-particle material "bottom-up" method will be used as a precursor in the preparation and production of parts. An example of how "bottom-up": how inert gas condensation, high-energy ball milling and electro deposition, etc. These methods can produce materials that have very small bit sizes to nano levels, but the disadvantage of this method is that it may contain adulterated substances and may contain pores occur in the manufacturing process. There are also restrictions on the size of a small piece of work. As a result, applications have limitations.

ผลลัพธ์ (อังกฤษ) 2:

The "bottom-up" material nanoparticles are used as precursors for the preparation and production of sample "bottom-up" approaches inert gas condensation, high-energy ball milling and electro deposition, etc. These methods can produce. a very small grain size to the nanoscale, but the drawback of these. Specimens that may contain contaminants. And may be porous occur in the manufacturing process. There are also restrictions on the size of the pieces are small. As a result, applications are limited.

ผลลัพธ์ (อังกฤษ) 3:

Methods. "Bottom-up" material nano particles are used as a precursor in the preparation and product, for example ways. "Bottom-up", namely how inert. Gas, condensationHigh - energy ball milling and electro deposition etc. these methods can produce materials with grain size of very small to nanoparticles. But the disadvantages of these methods. The target that may have the side-effect. And there may be porous, occur in the production process.The resulting application limitation.