กระบวนการเป้าหมาย จะมีความคล้ายคลึง

กระบวนการเป้าหมาย จะมีความคล้ายคลึงกับกระบวนการปัจจุบัน คือ มีกระบวนการขัดหยาบ และกระบวนการขัดละเอียด แต่ที่แตกต่างกัน คือ มีกระบวนการขัดผิวโดยใช้แรงทางกลร่วมกับสารเคมี (Chemical Mechanical Polishing ; CMP) นำมาใช้เป็นขั้นตอนสุดท้ายหลังจากกระบวนการขัดปัจจุบัน โดยสารเคมีที่ใช้ในการขัด คือ สารขัดที่มีส่วนประกอบของ Amorphous Silica Slurry และสารหล่อลื่นชนิดต่างๆ ที่ทางผู้ทำการทดลองได้จัดเตรียมขึ้น สำหรับใช้ในการขัด Slider Bar

ผลลัพธ์ (อังกฤษ) 1:

The target process is similar to that of the current process is rough sanding process and the polishing process in detail, but there is a different process to scrub using mechanical strength combined with chemicals (Chemical Mechanical Polishing CMP;) is used as the last step after the polishing process chemicals currently used in polishing and abrasive substances, there is a component of the Amorphous Silica Slurry, and various types of lubricants at the experiment has prepared for use in polishing the Slider Bar.

ผลลัพธ์ (อังกฤษ) 3:

The process is similar to the target current process is a process polishing rough polishing process detail but different. Is a process of polishing using mechanical force with chemical (Chemical Mechanical Polishing; CMP) was used as the final step after the polishing process at present. The cabin, chemicals used in polishing, polishing with components of Amorphous Slurry Silica and various types of lubricants that the experiment preparation. For use in the polishing Slider Bar.