เทคนิค Plasma Enhanced Atomic Layer

เทคนิค Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition (PE – ALD) เป็นกระบวนการสร้างฟิล์มโดยใช้พลาสมาเป็นตัวช่วยในการเร่งปฏิกิริยา โดยใช้สารตั้งต้นTrimethylaluminum (TMA) ที่เป็นของเหลว ถูกผ่านกระบวนการทำให้เป็นก๊าซโดยใช้แก๊สอาร์กอนเป็นตัวช่วย และพลาสมาของออกซิเจนปฏิกิริยากับTMA จะได้เป็นฟิล์มอลูมินา

ผลลัพธ์ (อังกฤษ) 1:

Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition technique (PE-ALD) is the process of creating films using plasma as an aid in Catalysis using Trimethylaluminum (TMA) precursor that is liquid is distributed as a gas by using gas argon. It is alumina film.

ผลลัพธ์ (อังกฤษ) 2:

Techniques Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition (PE - ALD) is the process of creating a film using plasma as an aid in catalysis. Substrate using Trimethylaluminum (TMA) as a liquid. Been through the process of making an argon gas using a wizard. And plasma of oxygen reaction with TMA. Is the alumina film.

ผลลัพธ์ (อังกฤษ) 3:

Technical Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition (PE - ALD) is the process of creating film using plasma as an aid in the catalyst Using the precursor Trimethylaluminum (TMA) to the liquid Be through the process is using argon gas as aidWill be a film alumina