ทำให้เกิดการสมดุลอัตราการกำจัดวัสดุ

ทำให้เกิดการสมดุลอัตราการกำจัดวัสดุระหว่างซิลิกอนไดออกไซด์และอลูมิเนียมออกไซด์ ความลึกหรือระยะห่างที่ต้องการระหว่างชั้นซิลิกอนไดออกไซด์และชั้นอลูมิเนียมออกไซด์ คือ -3 นาโนเมตร โดยใช้ชั้นอาร์ติกเป็นชั้นวัสดุอ้างอิง และลดปัญหาการกัดกร่อนของสไลเดอร์บาร์
หลักการที่ใช้ในโครงงาน
การขัดสไลเดอร์บาร์จะใช้กระบวนการขัดผิวโดยใช้แรงทางกลร่วมกับสารเคมี (Chemical Mechanical Polishing ; CMP)
หลักการที่ใช้ในการขัดสไลเดอร์บาร์ จะใช้แรงทางกลร่วมกับสารเคมี ในการกำจัดเนื้อวัสดุออก โดยแรงทางกลที่ใช้คือแผ่นเพลทที่หมุดด้วยความเร็วรอบที่ได้กำหนดเอาไว้ประกอบกับแรงกดของเครื่องที่ให้กับชิ้นงานหรือสไลเดอร์บาร์ และสารเคมีที่ใช้เป็นสารขัดที่ผสมขึ้นเพื่อทำให้การกำจัดเนื้อชิ้นงานได้ดียิ่งขี้นเนื่องจากสารขัดจะแตกตัวเป็นอนุภาคเล็กๆทำให้สามารถขัดชิ้นงานออกได้อย่างมีประสิทธิภาพ ซึ่งแรงทางกลและสารเคมีจะทำงานควบคู่กัน ทำให้สไลเดอร์บาร์ถูกขัดออก ส่งผลให้บริเวณของซิลิกอนไดออกไซด์และบริเวณของอลูมิเนียมออกไซด์มีความลึกที่เหมาะสมมากขึ้น ซึ่งเป็นไปตามเป้าหมายของโครงงาน

ผลลัพธ์ (อังกฤษ) 1:

Cause the balance between the material removal rate of silicon dioxide and aluminium oxide. The depth or distance between silicon dioxide layer, and the layer is aluminum oxide-3 nm. Using the r class is given a reference material, and reduce the problems of corrosion of the slider bar. The principles used in the project. Polishing the bars slides will use the process to scrub using mechanical strength combined with chemicals (Chemical Mechanical Polishing CMP;) หลักการที่ใช้ในการขัดสไลเดอร์บาร์ จะใช้แรงทางกลร่วมกับสารเคมี ในการกำจัดเนื้อวัสดุออก โดยแรงทางกลที่ใช้คือแผ่นเพลทที่หมุดด้วยความเร็วรอบที่ได้กำหนดเอาไว้ประกอบกับแรงกดของเครื่องที่ให้กับชิ้นงานหรือสไลเดอร์บาร์ และสารเคมีที่ใช้เป็นสารขัดที่ผสมขึ้นเพื่อทำให้การกำจัดเนื้อชิ้นงานได้ดียิ่งขี้นเนื่องจากสารขัดจะแตกตัวเป็นอนุภาคเล็กๆทำให้สามารถขัดชิ้นงานออกได้อย่างมีประสิทธิภาพ ซึ่งแรงทางกลและสารเคมีจะทำงานควบคู่กัน ทำให้สไลเดอร์บาร์ถูกขัดออก ส่งผลให้บริเวณของซิลิกอนไดออกไซด์และบริเวณของอลูมิเนียมออกไซด์มีความลึกที่เหมาะสมมากขึ้น ซึ่งเป็นไปตามเป้าหมายของโครงงาน

ผลลัพธ์ (อังกฤษ) 2:

Causing an imbalance between the material removal rate of silicon dioxide and aluminum oxide. The depth, or the distance required between layers of silicon dioxide and aluminum oxide layer is a layer -3 nm RMS Athletic layer reference materials. And reduce erosion of the slider bar
used in the project
, contrary to the slider bar to the surface using mechanical force with chemicals (Chemical Mechanical Polishing; CMP)
Principles used to scrub slider bar. It uses mechanical force with chemicals. The removal of material out The mechanical force is applied to the plate with pins that have defined speed, coupled with the pressure of the machine to the workpiece or the slider bar. And a chemical used as an abrasive mix to make the elimination of meat products a better largely because the abrasive particles are broken down into small pieces that can scrub out effectively. The mechanical and chemical run concurrently. Make a slider bar is polished off. The area of silicon dioxide and aluminum oxide area of depth more appropriate. The goal of the project.