ซึ่งเกิดจาก Oxygen atom ในกระบวนการ

ซึ่งเกิดจาก Oxygen atom ในกระบวนการ Oxygen Plasma Etching ได้มีการกัดกร่อนในส่วนต่างๆของ micro-pattern ตามเวลา 27000 sec.

ผลลัพธ์ (อังกฤษ) 1:

Which is caused by Oxygen atom in Oxygen Plasma Etching processes have corrosion in different parts of the micro-pattern by 27000 sec.

ผลลัพธ์ (อังกฤษ) 2:

Caused by Oxygen atom Oxygen Plasma Etching process has eroded in parts. micro-pattern by 27000 sec.

ผลลัพธ์ (อังกฤษ) 3:

In the process, which is caused by the Oxygen atom Oxygen Plasma Etching has corrosion in various parts of the micro-pattern time 27000 sec.