งานวิจัยนี้มุ่งเน้นและพัฒนาสารไวแสง

งานวิจัยนี้มุ่งเน้นและพัฒนาสารไวแสงชนิดของเหลวหนืดที่มีความเหมาะสมที่สุดสำหรับกระบวนการโฟโตลิโทกราฟี โดยใช้ PMMA ในอัตราส่วน 2, 5, 7, 10 และ 15 เปอร์เซ็นใน Anisole

ผลลัพธ์ (อังกฤษ) 1:

This research focuses on developing chemical and fluid type ISO nuet which are most suitable for the process fo Toh Li master uses inflection using PMMA in the ratio 2, 5, 7, 10 and 15 percent in Anisole.

ผลลัพธ์ (อังกฤษ) 2:

This research focuses on the development of sensitive and viscous liquid that are most suitable for the photochemical air Master graphene using PMMA in the ratio of 2, 5, 7, 10 and 15 percent in Anisole.

ผลลัพธ์ (อังกฤษ) 3:

This research and development of light sensitive materials of viscous fluid with the most suitable for the process of photolithography using PMMA ratio, 7 5 2,, and 10 15 percent. Anisole.